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金属表面处理中的物理气相沉积法

来源:宁波市鄞州恒泰机电有限公司 2011-12-31 12:59:54

    目前，在材料的表面处理领域中，为了提高材料的耐蚀，耐摩擦和硬度等特性，一种利用真空条件的物理气相沉积(PVD)方法引人注
    常用的在材料表面形成薄膜的方法有电镀和涂敷等，然而，经过电镀法处理以后，有废液和废气造成的公害问题。干式的物理气相沉积法是无公害的工艺方法，因而越来越为人们所重视。此法可以分为真空蒸发、离子镀膜、溅射镀膜三种，这些方法已用于光学、电子学和装璜工业等领域中。
    至今为止，物理气相沉积法经过不断的改进，可以进行活性反应蒸发镀膜，反应性溅射镀膜和高速溅射镀膜等类镀膜法，适用于镀1一100μm的厚膜表面处理，还有可能改善镀于母材的薄膜的附着强度。
    物理气相沉积新技术有效地利用了等离子体及离子，其作用在于从外电场加速离子，以便利用其功能，或通过离子化，以化学活性的方式加速反应。利用这种离子的物理气相沉积法在工业中的应用有：以超大规模集成电路为主的电子学，能源利用中的太阳能电池，各种薄膜敏感元件，材料表面处理等。

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